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上海市纳米中心纳米科技论坛本期讲座邀请了我校信息学院张卫教授，主讲“原子层淀积技术及其在纳米集成电路中的应用”，请有兴趣的老师和同学自行前往参加。具体内容参见附件。

科技处基础办

2011年4月26日

附件：

纳米科技论坛

讲座：原子层淀积技术及其在纳米集成电路中的应用

主讲：张  卫  教授

      复旦大学微电子学系主任

复旦-Novellus互连研究中心主任

时间：2011年5月5日 （星期四）   14：00

地点：徐汇区嘉川路245号3号楼3楼会议室

（近华东理工大学）

（张卫教授简介见下页）

回   执

单位名称

单位地址                                            邮编

注：请将回执于2011年5月3日前传真或E-mail至上海市纳米科技与产业发展促进中心。

传真：54290007             电话：64101616-120 223

E-mail:  hgchen@snpc.org.cn

    联系人：陈红光

原子层淀积技术及其在纳米集成电路中的应用

张卫教授简介

张卫教授现任复旦大学微电子学系主任、复旦-Novellus互连研究中心主任。1995年6月毕业于西安交通大学，获博士学位。1995-1997年在复旦大学做博士后，1997年起任教于复旦大学，1999年晋升为教授。2001年-2002年，2008年先后在德国开姆尼茨技术大学和汉诺威大学做访问学者(洪堡基金会洪堡学者)。

张卫教授在极大规模集成电路先进铜互连技术、原子层淀积工艺、以及纳米器件等集成电路的前沿领域取得了一系列创新性成果。比如他最早在国际上提出了掺碳的低k互连介质，提出了几种原子层淀积(ALD)纳米超薄介质新工艺。张卫教授先后主持了18项包括国家重大专项、国家自然科学基金会、教育部以及上海市等科研项目。自1995年以来发表SCI收录论文119篇，并申请发明专利60多项。曾获得上海市优秀博士后、上海市高校优秀青年教师、教育部新世纪优秀人才等荣誉称号，是“极大规模集成电路制造装备及成套工艺” 国家重大专项(02项)总体专家组专家，国家集成电路先导工艺平台副主任，上海市科学技术预见专家，中科院“百人计划”评审专家，国家科技奖励评审专家。